應 用：

• 高端裝飾彩色膜、防指紋膜。
  
  金色系（氮化鈦、氮化鋯、氮碳化鈦）。
  
  黑色系（碳化鈦、碳化鉻、碳化鎢、類金剛石）、
  
  銀色、藍色、咖啡色及雜色等

技術特點：

• 工藝易調整、重復性強，膜層均勻細膩、膜層光亮度佳、
  
  不易劃傷、耐磨損、長久使用不變色。能耗低、高性價比、
  
  占地面積小、豐富的膜層色彩種類、易操作和維護

關鍵數據：

• 真空室尺寸：可根據客戶需求定制
  
  全自動電控系統：觸摸屏智能界面

設備尺寸：

• 4000(L)×3600(W)×2400(H)

應 用：

• 泡沫鎳（混動汽車電池材料）、金屬鍍膜、導電薄膜

技術特點：

• 六個平面濺射工位、可實現雙面鍍膜、具備往復連續概念、
  
  可實現靈活多層膜系、可兼容多種柔性材料、全自動鍍膜過程

關鍵數據：

• 典型基材類型：PE、泡沫塑料
  
  基材卷徑φ1050mm
  
  卷繞速度5米/分

設備尺寸：

• 4000(L)×3600(W)×2400(H)

應 用：

• 印刷包裝膜、金銀線、包裝紙、電容膜、柔性電路板

技術特點：

• 12個濺射靶，可一次實現多種材料多層鍍膜可兼容多種柔性材料

關鍵數據：

• 典型基材類型：PET、PI、CPP、BOPP、PCV
  
  鍍膜幅寬可達1600mm
  
  基材卷徑可達700mm
  
  卷繞速度5米/分
  
  鍍膜方式：單面
  
  基材的厚度PET&PI最薄可達12μm

設備尺寸：

• 5000(L)×4000(W)×4000(H)

應 用：

• TFT、LCD、太陽能等光學、電子薄膜。可鍍制ITO、AZO、Nb2O5、
  
  iO2、Al2O3、TiO、ZrO等氧化物，也可鍍制AlN、SiN、ZrN、
  
  TiN等氮化物，還可鍍SiAl合金、Mo、Cr、Ti、Zr等純金屬薄膜

技術特點：

• 模塊化設計、進口組件高端配置、基片架自動回程、控制系統采用
  
  PC+PLC自動控制、陰極可選（平面或者旋轉陰極）

關鍵數據：

• 基片尺寸：最大可達2200×2500
  
  節拍：最快速度可實現35’一個節拍
  
  鍍膜方式：單、雙面

設備尺寸：

• 設備定制

應 用：

• 手機結構件裝飾膜、光學膜

技術特點：

• 12穴大型坩堝，可實現多層鍍膜
  
  高精度控制工件高速旋轉
  
  實時監控光學膜厚

關鍵數據：

• 設備最大內徑φ2700mm
  
  鍍膜方式：單面

設備尺寸：

• 5000(L)×4000(W)×3000(H)

應 用：

• 模具、刀具或汽車、縫紉機等零配件表面沉積耐磨涂層
  
  和潤滑涂層的DLC涂層

技術特點：

• 涂層產品表面硬度可大幅提高、達到2500HV以上
  
  并擁有極低的摩擦系數（＜0.1）
  
  明顯減少加工中產生的刮痕及摩擦，大幅提高產品質量
  
  四支平面靶及兩支離子源：可按需配置平面靶及離子源數量

關鍵數據：

• 真空室容積：φ1000*1000
  
  工位：18個，或按需提供

設備尺寸：

• 3820(L)×2980(W)×2300(H)

應 用：

• 該系列采用動態雙驅動磁控陰極電弧技術，離化率高。可制備TiN、CrN、TiAlN、 AlTiN、AlCrN、AlCrSiN等單層或多層膜系。高效的涂層前離子刻蝕技術，保證 了涂層的結合力及性能。該系列設備在鍍膜過程中無需打底層（過渡層），直接 成膜，沉積效率高

技術特點：

• 陰極電弧：φ160mm雙驅動動態磁控陰極電弧×6
  
  平面矩形氣體離子源

關鍵數據：

• 真空室容積：φ1250*1100
  
  工位：10個，或按需提供

設備尺寸：

• 3820(L)×2980(W)×2300(H)